设备用途：
应用于间歇式生产工艺，硅碳负极CVD气相沉炭工艺。
设备参数：
配置 | 参数（按需） | 配置 | 参数（按需） |
炉管材质： | 310S | 温控精度： | ±2℃ |
设备直径： | 0.3m-0.95m | 干燥气氛： | 氮气气氛/甲烷/乙炔 |
炉管长度： | 0.8m-6m | 进料含水率： | / |
加热方式： | 电加热 | 转速范围： | 0.5-1.6rpm，时序控制 |
加热功率： | 30KW-300KW(按需配置) | 时间控制： | 02-5h，根据需要设置 |
使用温度： | ≤950℃ | 出料温度： | 60℃-90℃ |
控温区数： | 3-6个 | 进料方式： | 平台进料/人工加料 |
控温方式： | PID控温 | 出料方式： | 炉体倾斜出料 |
控制系统： | PLC+触摸屏 | 炉管转速： | 变频调速 |
远程通讯： | DCS通讯/不带通讯 | 密封技术： | 旋转套密封 |
设备特点：
（1）节能：采用陶瓷纤维模块，保温性能好，蓄热值低采用科学的物料和气体布局系统，余热综合利用，采用等距辐射加热，热效率高，与传统窑炉相比节能约30%。
（2）精确时间控制：99段程序控温，支持多段程序。
（3）批次生产：灵活性好，便于调整工艺参数。
（4）根据实际气氛要求实现可控气氛下的物料煅烧，密封面小，密封性能最好。
（5）缩短生产周期：设备自带风冷系统，个别型号设备可设开盖结构，加速降温过程，缩短生产周期。